ADEV氧含量分析儀應用于浮法玻璃錫槽保護氣檢測中
在浮法玻璃生產中，為確保玻璃質量和降低錫的消耗，需要連續向錫槽提供定量的高純度氮氣和氫氣混合保護氣體，以防止錫液氧化。然而，在某些情況中，準確檢測氧氣含量是一項挑戰，特別是在高溫環境下達到ppm級別的微量氧工況。因此，選擇合適的氧含量分析儀對于準確測量微量氧含量并調整優化錫槽工況至關重要。ADEV氧含量分析儀應用于浮法玻璃錫槽保護氣檢測中
保護氣體在浮法玻璃生產中扮演著至關重要的角色。為了確保錫液面的光亮潔凈，防止錫在高溫下被氧化并污染玻璃表面，需要使用惰性或還原性氣體作為保護氣體。目前，國內外普遍采用氮氣與氫氣混合的氣體（氮氣占92％～96％，氫氣占4％～8％）作為錫槽的保護氣體。
在國內浮法玻璃企業中，保護氣體的主要技術參數已經得到了廣泛的應用。供氣設備的壓力一般維持在0.03MPa左右，而流量（標準狀態）則保持在1400～1500m3/h的范圍內。其中，氮氣的流量（標準狀態）為1300～1400m3/h，而氫氣的流量（標準狀態）則為90～110m3/h，約占混合氣體的5％～8％。在錫槽內，保護氣體的分布比例通常是首部為5％～6％，中部為2％～4％，尾部為4％～6％。ADEV氧含量分析儀應用于浮法玻璃錫槽保護氣檢測中
此外，為了保護氣體的質量，還需要控制一些關鍵指標。氧氣的含量應不超過10ppm，而露點則應低于-60℃。這些指標的控制有助于確保保護氣體的純度和干燥度，進一步提高浮法玻璃生產的質量和效率。
在選擇氧含量分析儀時，需要考慮不同分析儀的原理特點、優缺點以及工藝條件和狀況。氧化鋯分析儀具有高靈敏度和寬測量覆蓋范圍，可以測量低至ppm級的微量氧和高至純氧。然而，在使用時需要注意還原性氣氛對電極的影響，以及可燃氣體和有害成分對測量精度和使用壽命的影響。相比之下，電化學氧含量分析儀適用于非酸性氣體微量氧的測定，性能穩定，測量準確，且不受還原性環境的影響。ADEV氧含量分析儀應用于浮法玻璃錫槽保護氣檢測中
為了滿足工藝要求，需要確定合適的測量范圍和樣氣壓力。此外，在使用電化學氧含量分析儀時，需要注意防止滲漏，因為安裝環境中的氧氣濃度遠高于儀器分析的樣氣中的氧氣含量。因此，建議選用金屬管作為取樣管，并盡量縮短樣氣管路，以減少滲透對儀器準確度的影響。
總之，保護氣體在浮法玻璃生產中起著重要的作用，合理的參數控制和質量指標是保證生產順利進行和產品質量的關鍵。選擇合適的氧含量分析儀并正確使用，對于浮法玻璃生產中錫槽保護氣檢測至關重要，可以提高玻璃質量和降低生產成本。
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