日本Air Liquid在線微量氧分析儀在半導體超純電子氣體中ppb氧含量的應用
在半導體材料和電子器件的生產中，要使用H、N、O、Ar、he等高純度氣體，氣體的純度嚴重影響產品質量。諸如氫氣、氮氣以及它們所流經的系統中的水和氧氣之類的氣體對硅和III-V族化合物極其有害。在硅外延過程中，當氫氣中的含水量達到100vpm時，硅外延層就會變成多晶。在MOS LSI的硅柵多晶膜工藝中，如果稀釋氣體中含有微量水分，多晶硅膜會被“氧化硅團”夾住，導致刻蝕多晶硅膜時多晶硅脫落，導致電性能惡化。因此，有必要監測和控制流經系統的高純氣體和微量氧氣和水。
高純氣體是集成電路、光伏、光纖等行業的重要基礎材料。在大規模集成電路芯片生產過程中，氣體中的氣態、液態和固態雜質會對芯片質量產生重要影響。由于氣體中微量氧和水的存在，高溫合成的半導體器件表面容易形成氧化膜，這是影響器件壽命和性能的重要因素。
日本Air Liquid在線微量氧分析儀在半導體超純電子氣體中ppb氧含量的應用
例如，外延生長是生產高質量集成電路的重要步驟，沉積層的雜質水平、厚度和微結構完整性取決于沉積工藝中所用氣體的純度。當氣體中雜質過多時，外延層會形成“暗礁”，產生晶格缺陷等后果。因此，在半導體制造過程中，高靈敏度的氣體檢測顯然是必要的。
目前可以將N、Ar、H體積氣體中的雜質(包括水分氧氣)控制在1ppb以下。為了進一步提高半導體工藝的質量，需要提高特殊氣體的純度，特別是降低其中的殘留水分。現有的特種氣體水分濃度測量裝置主要有電容式、壓電晶體振蕩器式等。但由于特殊氣體的反應性、腐蝕性和反應產物的累積性，測量裝置的老化變化很明顯。因此，傳感器必須經常清潔，并在短時間內重新校準。特別是傳感器吸水時，特殊氣體溶解，無法進行精密準確的測量。微量氧分析儀采用的電化學及庫倫法及赫茲電化學方法，本文介紹日本液空公司的ppb微量氧分析儀測試精度是0.5ppb,測試范圍0-10ppb,0-10000ppb.它是為了滿足近年來半導體工業對高純氣體日益增長的需求而開發的。估計對半導體、制藥、新陶瓷等行業的氣體用戶和氣體制造商的質量管理會有很大的提升。該分析儀可以測量氮氣、氬氣、氦氣和氫氣中的微量氧氣，其*低檢測靈敏度從以前產品的50ppb大大提高到0.5ppb
日本Air Liquid在線微量氧分析儀在半導體超純電子氣體中ppb氧含量的應用
半導體芯片在200~350℃的惰性氣體(N2 \氬氣)氣氛中退火。日本液空在線微量氧分析儀分，可測量半導體行業保護氣氛中ppb級微量氧含量，精度是0.5ppb.
日本液空在線微量氧分析儀的應用:
-半導體高純電氣體
-石化、電力-化學反應分析
-空氣分離中高純氧和微量氧的監測-空氣分離和液化
-冶金、半導體、航空航天和**工業-核燃料處理和同位素分離
-制氫、制氮、凈化和干燥設備-純氣態烴的流路監控日本Air Liquid在線微量氧分析儀在半導體超純電子氣體中ppb氧含量的應用
-可燃液體保護氣體層的主要液體供給和檢測
-氣態單體的工藝分析:氯乙烯、丙烯、丁二烯、乙烯、橡膠、叔丁胺等
日本液空ppb在線氧氣分析儀0-10ppb參數:
精度:+-0.5ppb
可選范圍:
0-10ppb,0-10000ppb
更多日本Air Liquid在線微量氧分析儀在半導體超純電子氣體中ppb氧含量的應用信息請直接致電埃登威上海公司13482246053。
